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少量未處理的灰塵微粒或者氣體分子(zǐ)可能嚴重影響一離河些工(gōng)藝流程。請想象一下污染的空氣對半導體這種高度敏感的制造工(間煙gōng)藝流程可能産生什麼樣的危害。

在半導體生産中，前沿的生産技術需要潔淨兒工度很高的空氣，而且這一潔淨度要求還在不(bù)斷提高。通(tōng)長器常要求晶圓生産環境的灰塵粒徑要小(xiǎo)于25n知相m（2009年），目前這一粒徑值還在減小(xiǎo)，預計到雨資2017年将減小(xiǎo)到10nm。氣載分子(zǐ)污染他水物（AMC）也是高級晶圓廠關注的問題。很多氣載分子(zǐ)污染物多民（AMC）都被證實會(huì)影響産品良率。例如(rú)，酸性氣北東體會(huì)腐蝕硬盤或晶圓，可凝性有機章那物的沉降和低(dī)濃度氨氣的存在會(huì)可化影響生産操作。

潔淨室的重心不就就是空氣過濾設備，根據不(bù)同的潔淨室類型，需要考慮使用不(西見bù)同的過濾設備。

憑借15年以上的微電子(zǐ)和半導體污染控制技術暗訊行業經驗以，嘉科(kē)能夠提供合理的潔淨空氣解決方案。使以下工影術(gōng)藝得(de)到保護:

晶圓及半導體

微電子(zǐ)工(g女年ōng)藝設備

硬盤驅動

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